芯片性能提升35%功耗降低50%,这事三星能搞定吗?

网易科技 · 与非网·2019-05-15 18:27

1.5k
三星 将于2021年向市场推出一项突破性的处理器技术,对最基本的电子元件进行根本性改造,使芯片性能提高35%,同时使能耗降低50%。
据悉,当地时间周二三星在于加州圣克拉拉举行的三星铸造论坛(Samsung Foundry Forum)上宣布,这项名为“3纳米环绕栅极”(gate all around,GAA)的技术能够对芯片核心晶体管进行重新设计和改造,使其更小更快。到2021年,应用这种技术的芯片问世后将成为三星与英特尔和 台积电 等竞争对手的交手中迈出的重要一步。三星希望借此加快芯片行业的发展步伐。近年来,芯片行业一直难以克服极端小型化带来的工程挑战。
国际商业战略咨询公司(International Business Strategies)首席执行官汉德尔·琼斯(Handel Jones)表示,三星强大的材料研究项目正在取得成效。
他表示:“三星在GAA方面领先台积电大约一年时间。”“而英特尔可能落后三星两到三年。”
三星的进步将延长摩尔定律所描述的行业进步,确保我们的手机、手表、汽车和家庭互联设备能变得更智能。在GAA技术的帮助下,至少在未来几年,用户可以期待出现更好的图形处理技术、更智能的人工智能和其他计算方面的改进。
“GAA将标志着我们代工业务进入一个新时代,”三星代工业务营销副总裁瑞安李(Ryan Lee)在本次活动上表示。
三星的3纳米环绕栅极技术(GAA)能够对芯片晶体管进行重新设计

网易科技 · 与非网·2019-05-15 18:27

1.5k
  • 三星
  • 芯片
  • 用户热评
    打开摩尔芯球APP,查看更多评论

    重大事件及时推送,更流畅的沉浸式阅读体验

    参与评论

    0/200字

    登录后即可发布评论

    发布评论
    Copyright©2019 皖ICP备19011903号-7

    皖公网安备 34019202000645号

    +86
    获取验证码
    登 录

    邮箱登录

    未注册过的用户将直接为你创建摩尔账号